IPO銘柄詳細
ホロン
コード | 市場 | 業種 | 売買単位 | 注目度 |
---|---|---|---|---|
7748 | JASDAQ | 1株 | B |
スケジュール
スケジュール | |
---|---|
仮条件決定 | 2005/01/21 |
ブックビルディング期間 | 2005/01/25 - 01/31 |
公開価格決定 | 2005/02/01 |
申込期間 | 2005/02/02 - 02/04 |
払込期日 | 2005/02/08 |
上場日 | 2005/02/09 |
価格情報 | |
---|---|
想定価格 | 210,000 - 250,000円 |
仮条件 | 180,000 - 230,000円 |
公開価格 | 230,000円 |
初値予想 | 400,000円 |
初値 | 460,000円 |
- スケジュールは上場企業都合により変更になる場合があります。
基本情報
代表者名 | 冨加津好夫/S14年生 |
---|---|
本店所在地 | 東京都新宿区 |
設立年 | S60年 |
従業員数 | 47人 (2004/11/30現在) |
事業内容 | 半導体ウエハーおよびフォトマスク上の半導体回路の寸法を電子ビーム方式によって測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売 |
URL | http://www.holon-ltd.co.jp/ |
株主数 | 48人 (目論見書より、潜在株式のみの株主も含む) |
資本金 | 387,050,000円 (2005/01/07現在) |
上場時発行済株数 | 24,920株(別に潜在株式1,356株) |
公開株数 | 4,700株(公募2,000株、売り出し2,100株、オーバーアロットメント600株) |
調達資金使途 | 研究開発(当面は安全性の高い金融商品で運用) |
連結会社 | なし |
シンジケート
公開株数4,100株(別に600株)
種別 | 証券会社名 | 株数 | 比率 |
---|---|---|---|
主幹事証券 | いちよし | 2,665 | 65.00% |
引受証券 | 大和SMBC | 615 | 15.00% |
引受証券 | 極東 | 410 | 10.00% |
引受証券 | 新光 | 123 | 3.00% |
引受証券 | UFJつばさ | 123 | 3.00% |
引受証券 | 高木 | 41 | 1.00% |
引受証券 | ワールド日栄フロンティア | 41 | 1.00% |
引受証券 | イー・トレード | 41 | 1.00% |
引受証券 | 松井 | 41 | 1.00% |
大株主(潜在株式を含む)
大株主名 | 摘要 | 株数 | 比率 |
---|---|---|---|
冨加津好夫 | 代表取締役社長 | 5,865 | 24.20% |
エー・アンド・ディ | 特別利害関係者等 | 2,988 | 12.30% |
JFEエンジニアリング | 特別利害関係者等 | 2,100 | 8.70% |
パーテック インターナショナル ベンチャーズ シーヴィ | 特別利害関係者等 | 1,893 | 7.80% |
KLA-Tencor Corporation | 特別利害関係者等 | 1,710 | 7.00% |
パーベンチャー・ジャパン・エルエルシー | 特別利害関係者等 | 1,125 | 4.60% |
宮内栄 | 監査役 | 870 | 3.60% |
新田純 | 取締役 | 870 | 3.60% |
崎山武美 | 取締役 | 834 | 3.40% |
高桝新次 | 従業員 | 705 | 2.90% |
生江隆男 | 従業員 | 705 | 2.90% |
業績動向(単位:百万円)
決算期 | 種別 | 売上高 | 営業利益 | 経常利益 | 純利益 |
---|---|---|---|---|---|
2005/03 | 単独予想 | 2,201 | - | 509 | 321 |
2004/09 | 単独中間実績 | 1,091 | - | 303 | 193 |
2004/03 | 単独実績 | 2,010 | - | 567 | 358 |
2003/03 | 単独実績 | 1,779 | - | 590 | 258 |
売上高
営業利益
経常利益
純利益
1株あたりの数値(単位:円)
決算期 | 種別 | EPS | BPS | 配当 |
---|---|---|---|---|
2004/09 | 単独中間実績 | - | - | - |
2005/03 | 単独予想 | 12,891.89 | 67,924.88 | - |
参考類似企業
事業詳細
半導体ウエハやマスク上の半導体の回路寸法を、電子ビームによって測定する微小寸法測定装置の開発・製造・販売を主たる業務としている。顧客の大半は半導体メーカーや、マスクメーカーで、インテル、キヤノン、HOYAなどと取引実績がある。
(1)製品事業
マスク用電子ビーム微小寸法測定装置(EMU)、ステンシ(穴あき)マスク用電子ビーム微小寸法測定装置(EST)、ウエハ用電子ビーム微小寸法測定装置(ESPA)の開発・製造・販売を手掛けている。
主力製品はマスク用電子ビーム微小寸法測定装置(EMU)。フォトマスク検査装置であり、マスクの原版の回路図の線幅を測定し、回路の寸法検査や欠陥検査を行う。レーザー光線ではなく電子ビームを使用していることから、光学式寸法測定装置よりも微細な回路パターンの寸法測定が可能なことが特徴としている。同社製品EMUは、高性能マスク用電子ビーム微小寸法測定装置の市場をほぼ独占、デファクトスタンダートとなっている。
また、ESTの製品である「EST-3000」はステンシルマスクの検査に対応できる唯一の電子ビーム微小信奉測定装置。
(2)その他事業/保守サービス等を手掛けている。
今中間期の売上高構成比は、製品事業89.6%(EMU73.1%、EST/ESPA16.5%)、その他事業10.4%。輸出比率は63.2%。
(1)製品事業
マスク用電子ビーム微小寸法測定装置(EMU)、ステンシ(穴あき)マスク用電子ビーム微小寸法測定装置(EST)、ウエハ用電子ビーム微小寸法測定装置(ESPA)の開発・製造・販売を手掛けている。
主力製品はマスク用電子ビーム微小寸法測定装置(EMU)。フォトマスク検査装置であり、マスクの原版の回路図の線幅を測定し、回路の寸法検査や欠陥検査を行う。レーザー光線ではなく電子ビームを使用していることから、光学式寸法測定装置よりも微細な回路パターンの寸法測定が可能なことが特徴としている。同社製品EMUは、高性能マスク用電子ビーム微小寸法測定装置の市場をほぼ独占、デファクトスタンダートとなっている。
また、ESTの製品である「EST-3000」はステンシルマスクの検査に対応できる唯一の電子ビーム微小信奉測定装置。
(2)その他事業/保守サービス等を手掛けている。
今中間期の売上高構成比は、製品事業89.6%(EMU73.1%、EST/ESPA16.5%)、その他事業10.4%。輸出比率は63.2%。
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仮条件分析
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公開価格分析
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初値予想
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初値分析
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