前場コメント No.2 菱鉛筆、中国電、ＡＩメカテック、ハニーズＨＬＤ、東エレク、キヤノン
★9:02 三菱鉛筆－4日続伸 インドで筆記具製販の合弁設立
三菱鉛筆<7976.T>が4日続伸。同社は26日、現地生産による商品供給体制を構築するため、ＬＩＮＣ ＬＩＭＩＴＥＤ（インド）と共同出資し、筆記具の製造および販売を行う合弁会社を設立すると発表した。
これにより新たな市場開拓を行い、インド市場でのシェアアップとともにブランドの浸透を図るという。また、原材料調達の拠点としても活用し、サプライチェーンの機能強化を進めていくとしている。
三菱鉛筆<7976.T>が4日続伸。同社は26日、現地生産による商品供給体制を構築するため、ＬＩＮＣ ＬＩＭＩＴＥＤ（インド）と共同出資し、筆記具の製造および販売を行う合弁会社を設立すると発表した。
これにより新たな市場開拓を行い、インド市場でのシェアアップとともにブランドの浸透を図るという。また、原材料調達の拠点としても活用し、サプライチェーンの機能強化を進めていくとしている。
★9:02 中国電力－もみ合い 法人向け電気料金を値下げ 24年4月から
中国電力<9504.T>がもみ合い。同社は26日、法人向けとなる高圧および特別高圧の標準料金メニューについて、今後の電源調達環境の変化などを勘案し、2025年4月1日から値下げすると発表した。
電力量料金単価を原則としてキロワットアワーあたり0.30円の値下げを行う。卸電力取引市場価格の低下などに加え、24年12月に予定する島根原子力発電所2号機の再稼働により電源調達コストの低下が見込まれることを踏まえた。
中国電力<9504.T>がもみ合い。同社は26日、法人向けとなる高圧および特別高圧の標準料金メニューについて、今後の電源調達環境の変化などを勘案し、2025年4月1日から値下げすると発表した。
電力量料金単価を原則としてキロワットアワーあたり0.30円の値下げを行う。卸電力取引市場価格の低下などに加え、24年12月に予定する島根原子力発電所2号機の再稼働により電源調達コストの低下が見込まれることを踏まえた。
★9:02 ＡＩメカテック－買い気配 9万株・2億5000万円を上限に自社株買い 割合は1.47％
ＡＩメカテック<6227.T>が買い気配。同社は26日、9万株・2億5000万円を上限とした自己株取得枠を設定すると発表した。取得期間は2024年10月1日～10月21日。なお、上限株数を取得した場合の自己株式を除いた発行済株式総数に対する割合は1.47％となる。
ＡＩメカテック<6227.T>が買い気配。同社は26日、9万株・2億5000万円を上限とした自己株取得枠を設定すると発表した。取得期間は2024年10月1日～10月21日。なお、上限株数を取得した場合の自己株式を除いた発行済株式総数に対する割合は1.47％となる。
★9:03 ハニーズＨＤ－3日ぶり反落 1Q営業益23％減 仕入れコスト増が響く
ハニーズホールディングス<2792.T>が3日ぶり反落。同社は26日、25.5期1Q（6-8月）の連結営業利益は12.3億円（前年同期比23.3％減）だったと発表した。増収となったものの、円安影響で仕入れコストが増加したことにより売上総利益率が低下したことが響いた。
ハニーズホールディングス<2792.T>が3日ぶり反落。同社は26日、25.5期1Q（6-8月）の連結営業利益は12.3億円（前年同期比23.3％減）だったと発表した。増収となったものの、円安影響で仕入れコストが増加したことにより売上総利益率が低下したことが響いた。
★9:03 東京エレクトロン－続伸 今期AI向け売上高2.5倍 全体の3割に＝日経
東京エレクトロン<8035.T>が続伸。27日付の日本経済新聞朝刊は、同社の人工知能（AI）向け売上高の全体に占める比率は25.3期に30％（前期は15％）に増える見通しだと報じた。
財務担当の川本弘常務執行役員が日本経済新聞の取材で語ったという。金額では2.5倍の6900億円になり、連結全体（2兆3000億円）に占める比率は30％になるという。来期についても、川本氏は「今来ている引き合いだと間違いなく25.3期より増える。方向性は見えてきている」としており、同比率は3割を超える見通し。市場ではAI用半導体の動向を警戒する声が出始めたが、同社は今期だけでなく来期も需要増が続くとみている。
東京エレクトロン<8035.T>が続伸。27日付の日本経済新聞朝刊は、同社の人工知能（AI）向け売上高の全体に占める比率は25.3期に30％（前期は15％）に増える見通しだと報じた。
財務担当の川本弘常務執行役員が日本経済新聞の取材で語ったという。金額では2.5倍の6900億円になり、連結全体（2兆3000億円）に占める比率は30％になるという。来期についても、川本氏は「今来ている引き合いだと間違いなく25.3期より増える。方向性は見えてきている」としており、同比率は3割を超える見通し。市場ではAI用半導体の動向を警戒する声が出始めたが、同社は今期だけでなく来期も需要増が続くとみている。
★9:04 キヤノン－続伸 ナノインプリント半導体製造装置をTIE向けに出荷
キヤノン<7751.T>が続伸。同社は26日に、ナノインプリントリソグラフィ（以下、NIL）技術を使用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を、米国テキサス州にある半導体コンソーシアム「Texas Institute for Electronics」（以下、TIE）へ2024年9月26日に出荷すると発表した。
従来の投影露光装置は、ウエハー上に塗布されたレジスト（樹脂）に光を照射し回路を焼き付けるのに対し、NIL技術を使用した半導体製造装置は、ウエハー上のレジストに回路パターンを刻み込んだマスク（型）をハンコのように押し付けて回路パターンを形成するという。光学系という介在物がないため、マスク上の微細な回路パターンを忠実にウエハー上に再現でき、低消費電力・低コストで既存の最先端ロジック半導体製造レベルの5ナノノード（半導体製造プロセスの技術世代の呼び名）にあたる最小線幅14ナノメートルのパターン形成が可能としている。
キヤノン<7751.T>が続伸。同社は26日に、ナノインプリントリソグラフィ（以下、NIL）技術を使用した半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を、米国テキサス州にある半導体コンソーシアム「Texas Institute for Electronics」（以下、TIE）へ2024年9月26日に出荷すると発表した。
従来の投影露光装置は、ウエハー上に塗布されたレジスト（樹脂）に光を照射し回路を焼き付けるのに対し、NIL技術を使用した半導体製造装置は、ウエハー上のレジストに回路パターンを刻み込んだマスク（型）をハンコのように押し付けて回路パターンを形成するという。光学系という介在物がないため、マスク上の微細な回路パターンを忠実にウエハー上に再現でき、低消費電力・低コストで既存の最先端ロジック半導体製造レベルの5ナノノード（半導体製造プロセスの技術世代の呼び名）にあたる最小線幅14ナノメートルのパターン形成が可能としている。
関連ニュース
日本株の最新ニュース
関連コンテンツ
